財満・中塚研
Zaima&Nakatsuka Laboratory
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名古屋大学大学院・工学研究科・物質科学専攻・財満・中塚研究室
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おしらせ



第65回応用物理学会 春季学術講演会(2018年春)において、以下のシンポジウムを企画しています。
・ゲルマニウムの工学-電子・光・熱・スピン Ⅳ族半導体の新展開- (3月18日(日))
・日本の半導体産業・研究の明るい未来を描く (3月19日(月))
ぜひ、ふるってご参加ください。



金田裕一君(博士課程前期課程2年)が “第5回東海支部学術講演会発表奨励賞” を受賞しました。(2018年1月6日)



最近のGeSn材料に関する研究をレビューした公開論文 “Growth and applications of GeSn-related group-IV semiconductor materials” (S. Zaima et al., Sci. Technol. Adv. Mater. 16, 043502 (22 pages) (2015). ) が、出版されました。 『注目の論文』紹介記事(2015年7月28日)



「電子デバイス界面テクノロジー研究会 -材料・プロセス・デバイス特性の物理-」(第23回), 三島, 2018年1月19~20日.



10th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 11th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2018 / IC-PLANTS2018), Nagoya, Japan, March 4-8, 2018.



2nd Electron Devices Technology and Manufacturing (EDTM2018), Kobe, Japan, March 13-16, 2018.



第65回応用物理学会 春季学術講演会, 早稲田大学, 2018年3月17~20日.



1st Joint ISTDM / ICSI 2018 Conference (9th International SiGe Technology and Device Meeting / 11th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures), Potsdam, Germany, May 27-31, 2018.



International Conference on Solid-State Devices and Materials (SSDM2018), Tokyo, Japan, Sept. 9-13, 2018.



科学研究費補助金・特別推進研究(平成22年度~平成25年度)
省電力/超高速ナノCMOSのための電子物性設計と高移動度チャネル技術の創生



科学研究費補助金・特定領域研究(平成18年度~平成21年度)
シリコンナノエレクトロニクスの新展開 ― ポストスケーリングテクノロジー ―



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その他業績 所在地 リンク 連絡先


名古屋大学 結晶材料工学専攻